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Evidence of noncascade intracenter electron relaxation in shallow donor centers in silicon

机译:硅中浅施主中心非级联中心电子弛豫的证据

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摘要

Noncascade relaxation of photoexcited electrons on ionized donor centers has been observed in silicon doped by arsenic (Si:As) at low temperatures. Emission spectra of the Si:As terahertz intracenter laser give evidence of specific channels for the electron relaxation through low-lying donor states. The dominating relaxation channels strongly depend on the initial energy distribution of the nonequilibrium carriers. A relaxation step may exceed not only the energy gap to an adjacent lower-lying donor level but also the characteristic energy step as set by the energy and momentum conservation requirements for intravalley acoustic phonons.
机译:在低温下,在砷(Si:As)掺杂的硅中观察到电激发电子在电离供体中心上的非级联弛豫。 Si:As太赫兹中心激光的发射光谱提供了通过低位供体态进行电子弛豫的特定通道的证据。主要的弛豫通道在很大程度上取决于非平衡载流子的初始能量分布。弛豫步骤不仅可以超过到相邻较低供体能级的能隙,而且可以超过谷内声子的能量和动量守恒要求所设定的特征能级。

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